“大部分扫描电镜实验室对于纳米尺寸的准确测量，要求没有那么严格，比如线宽或颗粒大小到底是105nm还是95nm，似乎不太重要，大部分用户关心统计趋势而不是某一个值的准确值。但在半导体领域，105nm或95nm的误差，是不可接受的。这就提出了一个问题，我们如何才能测准?本文讨论了SEM成像参数/仪器校准以及电子束-样品相互作用模型对准确度的影响。”

　　自扫描电子显微镜(SEM)问世以来，经历了巨大的演变，已成为许多科学和工业领域的重要研究工具。高分辨SEM特别适合定性和定量方面的应用1，尤其是纳米技术和纳米制造。备注1：SEM定量方面应用主要是在半导体行业的测量或计量。

　　在第一张SEM图像被记录之前，人们最先提出的问题之一很可能是："......这个东西到底有多宽?"

　　在过去的几年里，这个问题的答案精度有了很大的提高，特别是如今CD-SEM已被用作半导体加工生产线上的主要测量工具，用于监控生产过程。半导体生产的明确需求推动了SEM设备及其功能的快速发展。在过去20年左右的时间里，通过半导体行业大量的研发资金投入，SEM仪器制造商极大地提高了这些仪器的性能。

　　校准良好的现代CD-SEM仪器能够进行极高分辨率和高度精确的测量。由于对SEM进行了许多改进，可以使用适当的校准样本以较高的置信度精确校准放大倍率(或刻度)。测量精度一般可以达到或优于0.2nm (1σ)，在半导体生产等许多应用中，这样的高精度已经足够。